艾迈斯欧司朗与爱思强宣布,面向Micro LED应用的200mm晶圆AIXTRON G5+ C和G10-AsP系统已获艾迈斯欧司朗认证

中国 上海,2023年2月14日——全球领先的光学解决方案供应商艾迈斯欧司朗(瑞士股票交易所股票代码:AMS)和半导体行业沉积设备领先供应商爱思强(AIXTRON SE,法兰克福证券交易所股票代码:AIXA)联合宣布,200mm晶圆AIXTRON G5+ C和G10-AsP系统已获得艾迈斯欧司朗的认证,可用于满足Micro LED应用需求。

爱思强的MOCVD系统AIX G5+ C和全新G10-AsP提供AIXTRON行星卫星式气浮旋转水平技术(Planetary Technology),为下一代高分辨率micro LED显示屏铺平了道路。早在2022年第一季度,艾迈斯欧司朗宣布200mm产能增建计划,在马来西亚现有工厂实现LED和Micro LED产能。MOCVD系统有望助力实现Micro LED的批量生产,打造出新一代显示应用。

艾迈斯欧司朗执行副总裁兼光电半导体业务负责人Robert Feurle表示:“爱思强和艾迈斯欧司朗保持着长期的合作关系,我们熟悉其设备的性能和质量标准。对于任务艰巨的项目,例如开发和生产适用于AsP和GaN器件的Micro LED,爱思强正是我们需要的合作伙伴。” 

爱思强首席执行官兼总裁Felix Grawert博士补充道:“G10-AsP和AIX G5+ C已成功获得艾迈斯欧司朗的认证,这是我们公司历史上一个非常重要的里程碑。艾迈斯欧司朗是全球领先的LED制造商,完全有能力将全新的基础性技术推向市场。我们正面临着从传统显示技术向新型Micro LED显示技术的重大转变。如今,爱思强正在迈入一个潜力巨大的未来增长市场,而且我们还有一位理想的合作伙伴与我们携手共进。” 

Micro LED具备非常显著的优势,例如更高的像素密度、更长的使用寿命、更高的亮度、更快的开关速度和更宽的色谱,进一步提升显示技术。相对能耗低也是一项重要优势,使得Micro LED技术非常适合用于下一代配备较小显示器的消费电子设备,通常这些设备为电池提供的空间非常有限。

Micro LED有着特殊的生产要求:在其量产过程中包含一个特殊的批量转移工艺步骤,数千个微米尺寸的LED芯片(阵列)被拾放。任何缺陷都可能导致像素坏死,使整个阵列变得无用。因此,必须使用几乎无误差的外延工艺,使缺陷最小化,支持高成品率和符合经济效益的Micro LED生产。

爱思强的新型G10-AsP外延工具经过精心设计,旨在满足这项应用的特殊需求。这项全新工具是世界首款全自动AsP反应器,提供全自动“检测盒到检测盒”(cassette-to- cassette)晶圆装载以及基于原位蚀刻的清洁机制。这两个特性结合在一起会对成品率产生显著影响。此外,间歇式反应器技术还为爱思强系统带来了多项优势:其每片晶圆的生产成本在当前市场上属于最低级别,而单位洁净室面积吞吐量为最高级别。同时,该新工具拥有精确的流量和温度控制功能,能在连续运行时保持非常好的材料均匀性。 


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关于爱思强

爱思强(AIXTRON SE)是全球半导体行业沉积设备领先供应商。公司成立于1983年,总部位于德国Herzogenrath,在亚洲、美国和欧洲设有子公司和销售办事处。爱思强的技术解决方案被全球众多客户用于制造基于化合物半导体材料的电子和光电子应用的先进部件。这些组件被用于广泛的创新应用,包括激光和LED应用、分散技术、数据传输、SiC与GaN电源的管理、转换、通信、信号和照明以及其他一系列前沿应用。

公司的注册商标包括:AIXACT,AIXTRON,Close Coupled Showerhead,EXP,EPISON,Gas Foil Rotation,OptacapTM,OVPD,Planetary Reactor,PVPD,STExS,TriJet。

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